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发布时间：2023-11-10 浏览次数：353
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设备简介： 化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；
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高温cvd一体机由以下几部分组成。
▲烧结系统；▲电控系统；▲上盖开启系统；▲真空系统；
配置详情
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设备特点：
1、控制稳定可靠，操作方便。 2、采用先进的pid自学习模糊控制，控温精度高，保持在±1℃。 3、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果更好，节能降耗。 4、数据存储功能，可保存烧结的重要参数，时长达30天之久（每天开机8小时）。 5、配方功能，可预存配方100条以上。 6、五个温区独立控制，使客户烧结工艺更加复杂多样。 7、联网功能，通过rj45接口，采用tcp/ip协议，可以让系统与上位机相连（上位机需安装相应软件）。
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产品型号 |
nbd-t1200-100t5g4f |
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供电电源 |
三相380v 50hz |
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额定功率 |
10kw |
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测温元件类型 |
k型热电偶 200mm |
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最高温度 |
1150℃ |
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加热温区尺寸 |
φ150*1135mm |
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炉管尺寸 |
φ100*1600mm |
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炉体尺寸 |
长1900*高1250*深900mm |
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推荐升温速率 |
10℃/min |
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重量 |
350kg | ||||||
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设备细节 |
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控制系统 |
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1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置；
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温度精度 |
±1℃ |
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流程控制画面 |
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买球官网平台的服务支持 |
1年质保，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如炉管和o形圈等） |
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