均温氧化扩散炉 （ⅰ型）-比较正规的买球软件

设备简介：
  均温氧化扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，可用于2-8英寸工艺尺寸。

设备特点：

 1.温场均匀，恒温区长度及精度：300～1250mm  800~1200℃±1℃

 2.具有强大的软件功能，nbd-101ep嵌入式操作系统，用户可以方便地修改工艺控制参数，并可随时显示各种工艺状态；配有故障自诊断软件； 
 3.程序可以实现手/自动工作，在停电或中途停机后，再次启动可以根据工艺手动升温，节省工艺时间； 
 4.具有多种工艺管路，可供用户方便选择； 
 5.冷端检测环境温度进行温度补偿，避免环境温度变化，对炉膛温度产生影响，避免层间干扰； 

 6.可存储多组pid参数供系统运行调用功能，具有多点温度补偿
 7.气体流量采用数字化精确控制，采用模拟信号闭环控制，强弱电分开，各种数据交互采用标准总线，提高抗干扰能力，保证数据安全；气体打开具有缓启动功能； 
 8.具有多种报警功能及安全保护功能；
 9.恒温区自动调整，串级控制，可准确控制反应管的实际工艺温度； 
 10.压力自动调整技术，将压力参数引入晶体硅氧化工艺，有效减小了尾部排风对工艺的干扰，减小由排风引起的工艺波动。

型号

可配工艺管外径

炉管外径152mm   适用于3＂；炉管外径252mm   适用于6＂；

炉管外径300mm   适用于8＂

温度控制范围

300~1150 ℃

恒温区长度及精度

300～1250mm（依客户要求定）  300~800 ℃±1.5℃, 800~1100 ℃±1℃

可控升降温速率

升温速率：≦15℃/min  降温速率≦5℃/min

加热区个数

3区，4区，5区，6区（依客户要求定）

送料方式

手动送料

冷却系统

水冷2-4kgf/cm2，8l/min；＋上接排风冷≈25m3/min；

轴向温场分布

径向温场分布

控制系统

1.烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置；

加热腔体

采用优质加热丝：kanthal及hre

绝热材料：晶体纤维等

绝缘子：高纯刚玉，间距依据温场调节

端口过渡环：氧化铝纤维真空成型。

温区：3段、4段、5段、6段

真空密封系统

真空度：≤10pa（机械泵）

供气系统

采用质子流量计控制气体流速，与设备集成为一体；

可选配项目

1、出料口排毒气柜；

2、净化出料台；

3、自动石英浆推拉舟机构

设备使用注意事项

1、装取样片必须带石棉手套，使用石英器件小心打碎；

2、选择合适的石英舟，取出清洁好的石英托板和石英拉钩；

3、安装样片插入到石英舟的槽内，用石英拉钩将石英舟推入炉管到恒温区；

4、炉管内压力不得超过0.15mpa（绝对压力），以防止压力过大引起危险；

5、高真空下使用时），设备使用温度不得超过1000℃；

买球官网平台的服务支持

一年有限保修，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如炉管和密封圈等）