发布时间:2020-07-07 浏览次数:2985
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设备简介: 多温区cvd系统一体炉,供气和真空系统灵活组合,满足各类薄膜沉积,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的cvd镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
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配置详情
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设备特点: 1、采用高纯石英或不锈钢材质炉管,耐腐蚀耐高温性能优越; 2、高纯度al2o3纤维耐火保温材料,保温效果优越,降低设备功耗; 3、炉体采用双层风冷结构工艺,自动抬升系统开启上盖;
4、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置; 9、一体化设备包含多路供气系统,多温区加热系统和高真空系统; |
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产品温区 |
三温区 |
四温区 |
五温区 |
六温区 |
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炉管尺寸 |
φ25/φ50/φ60/φ80/φ100*1600mm |
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工作温度 |
≤1150℃ |
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加热区选择 (可定制) |
200mm*3 200 300 200mm 200 400 200mm 300mm*3 300 400 300mm |
200mm*4 200 300 300 200mm 200 400 400 200mm 300mm*4 300 400 400 300mm |
200mm*5 300mm*5
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200mm*6 300mm*6
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升温速率 |
≤20℃/s |
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电气规格 |
ac380v 6~10kw |
ac380v 8~14kw |
ac380v 10~15kw |
ac380v 12~18kw |
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气体系统(可选购) |
浮子或质子 |
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管道示意图 |
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进气接口数量 |
2、3、4(多路可选) |
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流量范围 |
20-250/20-800ml/min......(多量程可选) 50/100/200/500sccm......(多量程可选) |
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工作压差范围 |
0-0.15mpa |
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低真空系统(可选购) |
真空泵型号 |
nbd-3c/nbd-4c |
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抽气速率 |
3l/s或4l/s |
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进排气口尺寸 |
kf16/25 |
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系统真空 |
3~5pa(真空泵极限真空6.2*10-2pa) |
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工作环境温度 |
5-40℃ |
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电气规格 |
ac220v |
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高真空系统(可选购) |
真空泵型号 |
nbd-103(a) |
nbd-103(b) |
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抽气速率 |
110l/s |
600l/s |
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真空测量计 |
复合真空计 |
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系统真空 |
4.310^-3pa |
6*10^-4pa |
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工作温度 |
5-40℃ |
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电气规格 |
ac 220v |
ac 380v |
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* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询400-000-3746 |
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