mgo(氧化镁)晶体-比较正规的买球软件

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mgo(氧化镁)晶体

发布时间:2024-04-11  浏览次数:52

mgo晶体

氧化镁(mgo)是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等,由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。我司可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的mgo单晶,采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。

产品名称

氟化镁(mgf2)晶体基片

技术参数

晶体结构:四方晶系

晶格常数:a=4.62å  c=3.04å  

密度:3.18 g/cm3

熔点:1255 °c

硬度:6 mohs

热膨胀系数:13.7×10-6/

折射率:no=1.3836   ne=1.3957

透光波长:110-7500nm

透过率:>93% @5μm    >85% @ 0.2μm

温度系数( dh / dt x 10-6 )2.3 ~1.7 @ 0.4 m

生长方法:坩埚下降法  

产品规格

常规晶向:

常规尺寸: 10x10x0.5mm10x5x0.5mm5x5x0.5mm

抛光情况:单抛、双抛、细磨

抛光面粗糙度:< 15a

注:可按客户要求定制方向和尺寸。

晶体缺陷

人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。

标准包装

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装

晶体材料咨询电话:199-5653-2471王经理
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