inp(磷化铟)晶体基片-比较正规的买球软件

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inp(磷化铟)晶体基片

发布时间:2024-03-30  浏览次数:85


inp非常适用于高频器件,如高电子迁移率晶体管和异质结双极晶体管(hbt)等方面。inp基器件在笔米波、通讯、防撞系统、图像传感器等领域有广泛应用

产品名称

磷化铟(inp)晶体基片

技术参数

晶体结构:立方晶系

晶格常数:a=5.4505  å

掺杂:none;sn;s;fe:zn

密度:4.81g/cm3

硬度:3 hohs

导电类型:n;n;n;si;p

折射率:3.45

载流子浓度:1-2x1016  1-4x1018  1-3x1018  .64x1018

位错密度:<5x104 cm-2

生长方法:lec

熔点:1062

弹性模量:7.1e1ldym  cm-2

产品规格

常规晶向: 

常规尺寸:2~x0. 5mm  10x10x0.5mm

抛光情况:单抛

表面粗糙度:15a

:只寸及方向可按照客户要求定做

晶体缺陷

人工金属单晶存在常见晶体缺陷,表面可能会有小黑点,微小气泡等

标准包装

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装

晶体材料咨询电话:199-5653-2471王经理
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