发布时间:2020-07-25 浏览次数:3349
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设备简介:
双温区的pecvd管式炉系统,组成部分为500w的射频发生器、可定位的独立滑动式烧结炉、高精度质量流量混合系统、稳定防反油真空系统。此款pecvd可用于生长纳米线或用cvd方法来制作各种薄膜。
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配置详情
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主要特点:
1. 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染; |
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产品型号 |
nbd-pecvd1200-50t2-n |
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电气规格 |
ac220v 3kw 射频功率:300或500瓦 13.56mhz |
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可达温度 |
1200 ℃ (<1小时) |
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连续温度 |
1100 ℃ (连续) |
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可达加热速率 |
≤20 ℃/分钟 |
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加热区长度 |
200mm 200mm(两个加热温区分别加热,分体式设计使温度梯度可以达到极限) |
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炉管尺寸 |
φ50*1800mm |
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射频线圈 |
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采用多节点镀银的水冷铜线圈,可匹配不同频率的射频电源 |
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控制系统 |
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1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置; |
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控温精度 |
/- 1 ℃ |
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加热元件 |
mo掺杂的fe-cr-al合金 |
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密封系统 |
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真空度:≤10pa(机械泵),达到启辉条件。 |
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压力测量与监控 |
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采用数显真空计可直观显示设备的真空度,实验数据及效果更加准确。 |
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供气系统 |
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采用质量流量计控制,与设备一体化,方便控制,出厂前已进行漏气测试工作。 |
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净重 |
100kg |
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设备使用注意事项 |
1.设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害; 2.设备使用时,炉管内压力不得超过0.125mpa(绝对压力),以防止压力过大冲开密封法兰; 3.高真空下使用时(10的负3次方pa),设备使用温度不得超过800℃。 |
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买球官网平台的服务支持 |
一年有限保修,提供终身支持; |
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